第二百一十二章 请先生赴死！（2 / 4）

实现精度的提高。
再之后，便是二次曝光技术，同样是基于193nm的光源。
而最终，在duv后，asml还是走了波长13.5nm的euv路径。
但那是十来年后的事情了。
彼时的asml已经一家独大，它的领先优势可以随意切换赛道，但此时的光刻机市场却并非如此。
此时还是群雄混战时期，谁先突破，便是赢家通吃。
asml与尼康佳能的光刻机之战，其实是一个弱者在走投无路之下，抱着‘光脚的不怕穿鞋的’的赌命心态进行绝地突围的故事。
asml能赢，并不在于林本坚的技术有多先进，而是在于林本坚给出了一个商业友好性极强的工艺方案。
在asml推出浸入式193nm产品的半年后，尼康也宣布自己的157nm产品以及epl产品样机完成。
然而，林本坚的浸入式属于小改进大效果，产品成熟度非常高，所以几乎没有人去订尼康的新品。
而半导体产品就是这样的特点，市场说了算。
赢得了市场，赢得了迭代的机会。
他想了想，还是耐心说道，“老师，您知道，我是一个商人。所以我习惯用商业的角度来看待问题。”
拿起矿泉水抿了一口，卿云继续说着，“您说，从投入……或者说对当前工艺的改进角度看，走157nm还是走浸入式193nm容易？”
程进茫然的看着他，摇摇头表示不知道，“但是技术路径就在摆着啊，科研是要攻坚克难的。”
卿云见状也只能无奈的耸了耸肩膀，“科研是科研的事，但作为一个企业家，我告诉你，我肯定选容易的。
有钱有市场我能继续出钱让科研研究下去，没钱我啥事都做不了。”
程进闻言嘶了一声，他好像明白了点。
卿云哂然一笑，“我们想要追赶别人，最好的法子是什么？”
“弯道超车？”
程进嗤笑了一声，他表示，这个口号已经喊了20年了，至少在半导体产业来说，是越超越离世界顶尖水平越远。
卿云翻了一个白眼，“是让敌人陷入泥潭里。”
他双手一摊，“193nm光刻工艺，全世界已经卡了20多年了，我们才刚刚起步，去年华电科45所才开始进行研究。
也就是说，从代际差距来看，此时我们和国际没太大区别，对吧？”
程进觉得自己牙齿有点疼。
特么的，要从这个角度说，确实没啥差距。
但特么的光刻机岂止是光源问题？
卿云见状笑了笑，“我知道差的还很远，但我们现在看得见对吧？但是如果他们走的慢一点，我们是不是差距就越小？
作为商人来说，197nm浸入式立刻可以实现65nm的生产，将现在130nm工艺直接提到半周期。
而走干式157nm，他们还需要从现在的130nm开始，连续走好几代才能达到65nm水平。
你说，作为商人，我怎么选？”
说到这里他顿了顿，“尼康他们之所以坚持157nm，是因为他们已经在这上面投入了太多，他们回不了头。
而asml……现在半死不活的，他们在赌命。但是……”
卿云定定地望着程进，“老师，如果他们赌成功了呢？”
程进闻言愣住了。
他并不是一个纯粹的科研人员。
他只是一个赶鸭子上架的科研工作者。
而且，他的原生家庭，其实也是经商。
此时跳出科研工作者的角度来看问题，他反而明白了过来。
卿云淡淡的说道，“他死，我不敢说asml永远也研发不出来浸入式，事实上asml和他已经合作了大半年了。
但我们会获得宝贵的追上乃至赶超的时间。
您也知道，浸入式相对于干式的突破，难度系数很低，林本坚是想出了一个匪夷所思的鬼点子，而不是工艺上的革命，我们在现有的第三代基础上跳跳脚，不是不能达到的。”
07年我们便达到了90nm，只是光学系统拉胯，别人见你做出来了，直接不卖配件让我们没法量产，直到十年后才解决。
而且事实证明，从某种意义上来说干式是一条弯路。
因为干式光刻机，所依赖的设备仪器，特别是光学器件太过高端，国内产业链发展不均衡，无法形成有效的支撑配合。
但是浸入式不一样，唯二欠缺的，只是193nm光源和193nm光刻胶，其他的，就算是空白领域，也很简单。
而光源和光刻胶，这两样，并没有杠精想的那么难。
毕竟，论玩激光，华国客气的说法，是祖宗级别，不客气的说法，地球村在座的各位都是渣渣。
之前之所以出不来，一是‘造不如买’，和芯片一样，没有市场迭代。
且当时正处于我们融入全球产业链的过程中，老实说，别放马后炮，当初几乎所有人都不会想到有什么卡脖子的事情出现。
二是科研的功利性，国内长期就没有造光刻机的，那光源谁去研究？研究出来做什么？
集中力量办大事，这个本身就是抓大放小。
事实上从战争打响，